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第116章 离子光刻机验证机 (4 / 6)

作者:学者医 最后更新:2021/12/27 14:14:59
        尤其是实验室内这台和初级制造台一摸一样的产物,赵玄算是将初级制造台芯片生产的模块单独组装生产出来一样。

        一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、检测等工序。

        现在碳纳米管材料技术,赵玄还没有时间去研究,所以光刻机验证工作,只能靠现有的硅芯片来做。

        只不过离子光刻机可以省去非常多的步骤,根本不需要曝光处理,光刻胶都不需要使用,直接通过离子束进行蚀刻。

        碳纳米管芯片以及硅芯片在使用离子光刻机生产时,两者生产流程是一样的。

        尤其是这台离子光刻机使用的操作系统就是纳米级数控机床上的操作系统,魏俊他们正好熟悉。

        这也是为什么魏俊和饶易会觉得赵玄颠覆他们认知的原因所在,这样的技术,赵玄竟然不愿意去写成论文发表在相关国际期刊上,要多可惜有多可惜。

        不过,好处就是技术以及设计图都在赵玄脑海以及实验室电脑中,泄密的问题基本不存在。

        至于赵玄根本不担心泄密的问题,说实话,就算把设计图纸全部公开,全球70多亿人,能看懂的人也不超过10个。

        至于能生产的就更没有了,因为里面的零部件精度必须达到1纳米的级别,如果没有纳米数控机床的话,根本无法生产。

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